应用于高频条件的性能提出了严格的要求:高的传输速率、低的插入损耗以及可协调的谐振频率温度系数。介质陶瓷可以在微波频段(300 MHz~300 GHz)下发挥一定功能性,得益于可控的器件尺寸以及优异的微波介电性能,微波介质陶瓷常被用于制备电路封装基板、介质
Mg0.5Ti0.5TaO4是二元MgO–Ta2O5体系等摩尔比复合TiO2形成的一种新型Tri-rutile结构陶瓷,该陶瓷据报道具有中等介电常数εr~40,低介质损耗~3.5×10-4。然而针对该陶瓷体系的研究尚存在不足之处,如:(1)该陶瓷从属于Tri-rutile结构的X射线)衍射强度微弱,与Rutile结构的X射线衍射峰相似,使其与Rutile结构不易区分,无法合适分析该晶体结构类型;(2)高频本征介电响应是认识Mg0.5Ti0.5TaO4陶瓷微观介质极化机制的重要手段,然而目前亦未有研究报道该体系的本征介电性能,该现状阻碍了学者对其微观介质极化机制的深入理解。(3)该陶瓷烧结温度高达1350oC,是不是能够借助于低熔点的玻璃助剂,在不恶化微波介电性能的前提下,降低烧结温度?
为克服现今Mg0.5Ti0.5TaO4陶瓷研究存在的上述不足,近日,西安电子科技大学杨鸿宇讲师联合电子科技大学李恩竹教授团队,开展Mg0.5Ti0.5TaO4陶瓷的高频本征介电性能与低温烧结特性的相关研究。首先,为区分Tri-rutile与Rutile的结构相似性并指认该陶瓷的结构类型,作者通过精细粉末X射线衍射、晶体结构精修以及透射电镜分析手段,具体分析并对比了二者存在的差距,同时提出了在Mg0.5Ti0.5TaO4陶瓷中存在的三倍超晶格结构,如图1与图2所示。
更重要的是,作者通过远红外反射光谱以及复介电函数拟合分析,具体指认了不同声学模式对本征介电性能的贡献程度,如图3与表1所示,获得了理论预测(ε0= 48.20, tanδ= 2.29×10-4)与测试(εr= 43.61, tanδ= 2.34×10-4)一致的结论。并提出了在Mg0.5Ti0.5TaO4中,位于229.48 cm-1处的声学模对介电常数具有最显著的贡献(24.3%),而129.13 cm-1的声学模则对介质损耗提供了最大贡献,约71.8%,理论而言,位于100 ~ 270 cm-1间的声学模对介电常数以及介质损耗产生了绝大多数贡献(分别约为78.3%以及97.8%),该结论说明了在微波频段下,Mg0.5Ti0.5TaO4陶瓷的介质极化绝大部分来源于红外频段下结构声子的振荡吸收。
图3. (a)实测以及拟合后的Mg0.5Ti0.5TaO4陶瓷的红外反射光谱;(b)复介电函数的实部与虚部
除此之外,针对Mg0.5Ti0.5TaO4陶瓷烧结温度过高的研究现状,为提高该陶瓷的低温烧结性,拓展在电子元器件领域的应用潜力,作者基于液相活化烧结机制,通过一系列分析Mg0.5Ti0.5TaO4与Li2O-MgO-ZnO-B2O3-SiO2(LMZBS)间的变温浸润性与动态烧结收缩行为,如图4与图5所示,为Mg0.5Ti0.5TaO4陶瓷寻找到一种高度匹配的玻璃助剂。
进一步研究该低温烧结材料体系的表观密度与εr值的演变,如图7所示,发现Mg0.5Ti0.5TaO4陶瓷外掺2 wt.%的LMZBS玻璃后,低温烧结材料体系的密度仅从6.577 g/cm3降低至6.495 g/cm3,虽然LMZBS玻璃具有较低的表观密度,但由于外掺玻璃助剂的含量水平较低,对实际表观密度影响较小,体系的介电常数亦未受一定的影响(约44.3),与1350oC烧结温度下的介电常数相近(约42.8)。说明适量LMZBS玻璃不仅对Mg0.5Ti0.5TaO4陶瓷的介电常数影响微弱,同时能明显降低烧结温度。
该低温烧结材料体系的Q×f与τf值的演变如图8所示,不难发现在1050oC烧结温度下,体系取得最佳Q×f值(约23820 GHz),对应τf值为123.2 ppm/oC。结合图9的扫描电镜分析不难发现,该烧结温度系的形貌相对致密,气孔率较低,烧结特性良好。
图9. Mg0.5Ti0.5TaO4陶瓷外掺xwt.%的LMZBS玻璃后,于1025 ~ 1100oC烧结温度下的SEM图(x=2% ~ 4%) 相比于仅能在较高温度下烧成的Mg0.5Ti0.5TaO4陶瓷,如表2所示,本研究在保证微波介电性能的同时大幅度降低了烧结温度(1350oC→1050oC)。同时结合该低温烧结陶瓷体系与Ag/Pd的共烧实验(图10)发现二者具备优秀能力的化学兼容与稳定性,LMZBS玻璃对Mg0.5Ti0.5TaO4陶瓷具备优秀能力的低温烧结促进效果,该材料体系具有应用于电子元器件领域的潜力。
表2. Tri-rutile结构的Mg0.5Ti0.5TaO4基固溶体陶瓷微波介电性能对比
测量标准(intrinsic measurement standard),简称
标准(intrinsic standard),是指基于现象或物质固有和可复现的
电容器为了可以储存更多的电量,通过图1中结构的多重层叠得以实现。图2是其
损耗都很低,而且击穿电压、体积电阻率和耐电弧性都较高。 聚四氟乙烯PCB 聚四氟乙烯
金属化工艺 /
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